如果结果不匹配，请 
更多“在半导体生产中，湿法腐蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法…”相关的问题
第2题
湿法磷酸生产中的有害杂质是（)
A.Fe2O3 、 MgO 、 Al2O3;
B.CaCO3 、Na2O 、 K2O;
C.Na2O 、 K2O 、 Al2O3 ;
D.CaCO3 、Na2O 、Al2O3;
第6题
纯碱生产中，产生色碱的原因很多。主要是铁制的设备遭受腐蚀形成的腐蚀产物，这些产物主要来源有两方面。其一是（)的腐蚀产物。其二是碳化塔自身的腐蚀产物。
A.压缩机
B.吸氨设备
C.滤过管线
D.液氨储罐
第7题
浓硝酸生产中，成品酸浓度不合格的设备原因有()。
浓硝酸生产中，成品酸浓度不合格的设备原因有（)。
点击查看答案
A . 加热器蒸汽列管被腐蚀
B . 系统泄漏
C . 喷射泵真空度高
D . 冷凝器高硅铸铁管裂纹
第8题
洗涤在生活、生产中不可缺少。下列洗涤方法中利用了乳化原理的是（）
A．用汽油洗去手上的油污
B．用洗洁精洗去餐具上的油污
C．用酒精洗去试管中的碘
D．用稀盐酸除去主要成分为碳酸钙的水垢
