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试比较XeF2,XeF4,XeF6氧化性的强弱,并写出它们与水反应的化学方程式。

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第1题
写出由Xe制备XeF2,XeF4,XeF6的反应方程式和这些化合物水解反应的方程式.

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第2题
判断分子几何构型及价电子构型:XeF2,XeF4,XeF6,XeO4,XeOF4.

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第3题
试根据价层电子对互斥理论推出下列情况下ABn型分子的几何构型: (1)中心原子A的价层电子对数为
试根据价层电子对互斥理论推出下列情况下ABn型分子的几何构型: (1)中心原子A的价层电子对数为

试根据价层电子对互斥理论推出下列情况下ABn型分子的几何构型:

(1)中心原子A的价层电子对数为6,配体B的个数n=4;

(2)中心原子A的价层电子对数为5,配体B的个数n=2。

并利用得出的结论判断下列分子或离子的几何构型:

(3)I3-;(4)XeF2;(5)XeF4;(6)ICl4-

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第4题
利用价电子对互斥理论,说明XeF4,XeO4,XeO3,XeF2,XeOF4等分子的形状。

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第5题
图5.37示出氙的氟化物和氧化物的分子(或离子)结构。(1)根据图形及VSEPR理论,指出分子的几何构型名称和所属点群

图5.37示出氙的氟化物和氧化物的分子(或离子)结构。

(1)根据图形及VSEPR理论,指出分子的几何构型名称和所属点群;

(2)Xe原子所用的杂化轨道;

(3)Xe原子的表观氧化态;

(4)已知在XeF2,XeF4,加合物晶体中,两种分子的构型与单独存在时的几何构型相同,不会相互化合成XeF2,从中说明什么问题?

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第6题
简要回答下列问题: (1)拟将下列离子转化为碳酸正盐,试说明怎样选择沉淀剂,并写出反应方程式:
简要回答下列问题: (1)拟将下列离子转化为碳酸正盐,试说明怎样选择沉淀剂,并写出反应方程式:

简要回答下列问题:

(1)拟将下列离子转化为碳酸正盐,试说明怎样选择沉淀剂,并写出反应方程式:

(2)从二氧化硅氯化制备SiCl4,需要和焦炭共热进行反应的耦合:

而用HF对二氧化硅进行氟化制备SiF4则不需要反应的耦合:

(3)Pb与稀盐酸反应,速率很慢且反应会停止;但与浓盐酸作用时,反应容易进行。试给出合理解释。

(4)从H3BO3显酸性的机理去说明为什么H3BO3是一元弱酸。

(5)试解释下列无机含氧酸的氧化性由强到弱的原因:

HClO4>H2SO4>H3PO4>H2SiO3

(6)为什么硅不与氧化性酸反应,但又可溶于HNO3及HF混合溶液中?

(7)用平面图示的方法表示单聚硅酸根SiO44-,焦硅酸根Si2O74-,链三聚硅酸根和环六聚硅酸根。写出链n聚和环n聚多硅酸根的化学式。

(8)画简图表示乙硼烷的结构,并说明其中3中心2电子键的形成过程。

(9)硼砂Na2[B4O5(OH)4]·8H2O是四硼酸的钠盐。试说明通常将硼砂的化学式写成Na2B4O7原因。为什么硼砂溶于水形成缓冲溶液?试计算其pH。

(10)三氟化硼分子是单聚体BF3,同样属于缺电子结构的乙硼烷分子却是B2H6。或者说是二聚的BH3。从结构角度如何解释这种现象?

(11)BiI5和PbI4均不能稳定存在,却有TU3存在,试说明其原因。

(12)试比较乙硼烷、烷烃、甲硅烷三者的热稳定性,写出其受热分解的化学反应方程式。

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第7题
试分析厌氧生物处理法的优缺点(与好氧生物处理法比较)?

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第8题
试比较厌氧法和好氧法处理的优缺点和使用范围。

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第9题
试比较厌氧生物处理与好氧生物处理的优缺点以及它们的适用条件。

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第10题
NaClO具有()。

A.氧化性

B.还原性

C.腐蚀性

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第11题
环氧涂料抗老化性强。()
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