A.在稀盐酸中:Ba2+、碳酸根离子、Zn2+
B.在氢氧化钠溶液中:H+、Mg2+、Cl-
C.在氯化钠溶液中:K+、Ca2+、硝酸根离子
D.在硫酸铵溶液中:Na+、Cu2+、OH-
在一定酸度下,用EDTA滴定金属离子M。当溶液中存在干扰离子N时,影响络合剂总副反应系数大小的因素是( )
(A) 酸效应系数αY(H)。
(B) 共存离子副反应系数αY(N)。
(C) 酸效应系数αY(H)和共存离子副反应系数αY(N)。
(D) 络合物稳定常数KMY和KNY之比值。
在直接电位法中,加入TISAB的目的是()。
A.配位被测离子
B.恒定指示电极电位
C.固定溶液中离子强度和消除共存离子干扰
D.提高测定灵敏度
A.Na+ Cl- SiO2-3 OH-
B.Na+ CL- H+ SiO2-3
C.K+ H+ NO-3 S2-
D.Na+ Cl- OH- HCO-3