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[单选题]

由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的,所以其()就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。

A.刻蚀速率

B.选择性

C.各向同性

D.各向异性

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第1题
干法刻蚀由于图形的保真度比较好,是亚微米和深亚微米尺寸小刻蚀器件的主要方法。()

此题为判断题(对,错)。

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第2题
人员在操作时不得裸手接触晶片。()
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第3题
光刻技术的原理和印刷的照相制版相似,即在硅基材料上涂覆光刻胶,接着利用分辨率极高的能量束来通过掩模,对光刻胶层进行选择性曝光。经显影后,在光刻胶层上获得和掩模图像相同的极微细的几何图形,再利用刻蚀等方法在工件材料上制造出微型结构。()
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第4题
刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被()覆盖及保护的部分,以化学作用或是物理作用的方式加以去除,以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。

A.二氧化硅

B.氮化硅

C. 光刻胶

D.去离子水

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第5题
生产裸铜线和塑包线的工艺如图4所示: 某厂现有I型拉丝机和塑包机各一台,生产两种规格的操钢

生产裸铜线和塑包线的工艺如图4所示:

某厂现有I型拉丝机和塑包机各一台,生产两种规格的操钢线和相应的两种顯包线,没有拉丝塑包联合机(简称联合机).由于市场需求扩大和现有塑包机设备陈旧,计划新增I型拉丝机或联合机(由于场地限制,每种设备最多1台)或改造塑包机,每种设备选用方案及相关数据如表5:

已知市场对两种规格裸铜线的需求分别为3000km和2000km,对两种规格塑包线的需求分别为10000km和8000km.按照规定,新购及改进设备按每年5锚提取折旧费,老设备不提:每台机器每年最多只能工作8000h.为了满足需求,确定使总费用最小的设备选用方案和生产计划。

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第6题
下列关于金属颗粒暗场成像及光谱的说法正确的是()。

A.金属纳米结构的共振波长与尺寸、形状和周围环境的介电常数无关

B.成像光谱仪在单颗粒光谱测量中无需扣除由于光源自身光学特征产生的背景光谱

C.金属纳米结构对特定波长的光子具有显著增强的吸收和散射能力

D.成像光谱仪的检测通量高,可同时测量较多的颗粒

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第7题
LIGA技术的第一步骤是()。
LIGA技术的第一步骤是()。

A、通过电铸从光刻胶三维结构上产生金属母模

B、用光刻的方法在光刻胶上刻出微机械或微器件的三维结构

C、用生产用模作大规模复制

D、用母模通过电铸或塑铸方法复制许多金属的或其它材料的生产用模

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第8题
晶圆盒打开后,不允许裸手抓海绵及滤纸,要带上手套/指套后才可以将其取出。()
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第9题
在第3章的习题3中,为对一个个人的随机样本检验每周花在睡眠上的分钟数(sleep) 和每周花在工作
在第3章的习题3中,为对一个个人的随机样本检验每周花在睡眠上的分钟数(sleep) 和每周花在工作

上的分钟数(tot work)之间的替代关系,我们估计了一个方程。方程中还包括受教育程度和年龄。由于sleep和tohwork是每个人同时选择的,所估计的睡眠和工作之间的交替关系会遭到“联立性偏误”的批评吗?请解释。

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第10题
请问关于华为设备下使用5GNR2.6G+4.9G载波聚合功能特性,描述正确的是如下哪些?()

A.由于进入CA状态时不能保证PCell和SCell的信道质量完全相同,所以在添加SCell后会导致CQI波动

B.若一个CAUE配置了SCell,则该CAUE和网络之间同时建立两个RRC连接,消耗两个RRC连接用户数License,在PCell和SCell中分别占用一个硬件资源

C.开启CA特性后,由于SCell的上行ACK/NACK、CSI都在有PUCCH的PCell上反馈,当上行PUSCH无调度时,会增加PUCCH的开销;当上行PUSCH有调度时,会增加PUSCH的随路信令开销

D.开启CA特性后,通过载波管理及调度实现快速负载平衡,可以有效利用网络中的空闲资源,整网的PRB利用率有所提升

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第11题
干法刻蚀的特点之一是各向异性腐蚀能力强。()

此题为判断题(对,错)。

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