由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的,所以其()就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。
A.刻蚀速率
B.选择性
C.各向同性
D.各向异性
A.刻蚀速率
B.选择性
C.各向同性
D.各向异性
A.二氧化硅
B.氮化硅
C. 光刻胶
D.去离子水
生产裸铜线和塑包线的工艺如图4所示:
某厂现有I型拉丝机和塑包机各一台,生产两种规格的操钢线和相应的两种顯包线,没有拉丝塑包联合机(简称联合机).由于市场需求扩大和现有塑包机设备陈旧,计划新增I型拉丝机或联合机(由于场地限制,每种设备最多1台)或改造塑包机,每种设备选用方案及相关数据如表5:
已知市场对两种规格裸铜线的需求分别为3000km和2000km,对两种规格塑包线的需求分别为10000km和8000km.按照规定,新购及改进设备按每年5锚提取折旧费,老设备不提:每台机器每年最多只能工作8000h.为了满足需求,确定使总费用最小的设备选用方案和生产计划。
A.金属纳米结构的共振波长与尺寸、形状和周围环境的介电常数无关
B.成像光谱仪在单颗粒光谱测量中无需扣除由于光源自身光学特征产生的背景光谱
C.金属纳米结构对特定波长的光子具有显著增强的吸收和散射能力
D.成像光谱仪的检测通量高,可同时测量较多的颗粒
A、通过电铸从光刻胶三维结构上产生金属母模
B、用光刻的方法在光刻胶上刻出微机械或微器件的三维结构
C、用生产用模作大规模复制
D、用母模通过电铸或塑铸方法复制许多金属的或其它材料的生产用模
上的分钟数(tot work)之间的替代关系,我们估计了一个方程。方程中还包括受教育程度和年龄。由于sleep和tohwork是每个人同时选择的,所估计的睡眠和工作之间的交替关系会遭到“联立性偏误”的批评吗?请解释。
A.由于进入CA状态时不能保证PCell和SCell的信道质量完全相同,所以在添加SCell后会导致CQI波动
B.若一个CAUE配置了SCell,则该CAUE和网络之间同时建立两个RRC连接,消耗两个RRC连接用户数License,在PCell和SCell中分别占用一个硬件资源
C.开启CA特性后,由于SCell的上行ACK/NACK、CSI都在有PUCCH的PCell上反馈,当上行PUSCH无调度时,会增加PUCCH的开销;当上行PUSCH有调度时,会增加PUSCH的随路信令开销
D.开启CA特性后,通过载波管理及调度实现快速负载平衡,可以有效利用网络中的空闲资源,整网的PRB利用率有所提升