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题目内容 (请给出正确答案)
[单选题]

对于沟道长度足够短的MOSFET,其饱和区漏源电流()。

A.∝(VGS-VT)2

B.∝W/L

C.∝L

D.∝Cox

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第1题
已知N沟道增强型MOSFET的μ=1000cm2/V.s,Cv=3x10-8F/cm2,W/l=1/1.47,|V≇

已知N沟道增强型MOSFET的μ=1000cm2/V.s,

Cv=3x10-8F/cm2,W/l=1/1.47,|VA|=200V,VDS=10V,工作在饱和区,试求:(1)漏极电流IDQ分别为1mA、10mA时相应的跨导gm,输出电阻rds,放大因子μ.(2)当VDS增加10%时,相应的IDQ值.(3)画出小信号电路模型.

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第2题
导致MOSFET晶体管出现非零漏电导的因素不包括()。

A.沟道长度调制效应

B.漏电场静电反馈效应

C.漏感应势垒降低

D.亚表面穿通效应

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第3题
p沟道MOSFET,其衬底为()型,当栅极施加适当负压后,可形成()导电沟道。
p沟道MOSFET,其衬底为()型,当栅极施加适当负压后,可形成()导电沟道。

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第4题
测量某MOSFET的漏源电压为-3V,栅源电压为-2V,其开启电压或夹断电压为-1V,该管工作在()。

A.可变电阻区

B.预夹断临界点

C.截止区

D.饱和区

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第5题
测量某MOSFET的漏源电压、栅源电压值如下,其VT或VP值也已知,试判断该管工作在什么区域(
测量某MOSFET的漏源电压、栅源电压值如下,其VT或VP值也已知,试判断该管工作在什么区域(

饱和区,可变电阻区,预夹断临界点或截止)。

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第6题
MOSFET的电容有三部分组成:MOS结构电容、沟道电容,结电容。除MOS结构电容外,其他两个电容都是线性的且随所加电压而变化。()‏
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第7题
n沟增强型MOSFET源端接地,工作在可调电阻区时,以下说法错误的是()。

A.可调电阻区的电压范围为

B.近漏处比近源处的沟道厚度要小

C.此时沟道区呈现电阻特性,电流与基本上是线性关系

D.越大,漏端沟道越来越薄,沟道电阻越大

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第8题
对于恒定电场规则下的等比例缩小原理,假设VT可以等比例缩小K倍,pn结内建势可以忽略,下述描述错误的是()。

A.源漏pn结耗尽区宽度缩小K倍

B.沟道电阻不变

C.饱和区跨导缩小K倍

D.栅极总电容缩小K倍

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第9题
为定量分析MOSFET电流-电压特性,可以假定()。

A.漏区和源区的电压降可以忽略不计

B.沿沟道的扩散电流比由电场产生的漂移电流小的多

C.在沟道内载流子的迁移率为常数

D.其他选项都正确

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第10题
由三只特性相同的N-EMOSFET构成的电压-电流变换器如图NP4-13(a)所示,现将四个同样的变换器连
由三只特性相同的N-EMOSFET构成的电压-电流变换器如图NP4-13(a)所示,现将四个同样的变换器连

成图NP4-13(b)所示模拟相乘器,已知各管工作于饱和区,沟道长度调制效应忽略不计,输出电流i=i1-i2,试证:

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